Local Defect Density in Polycrystalline High-k Dielectrics: CAFM-Based Evaluation Methodology and Impact on MOSFET Variability
- Couso, C.
- Porti, M.
- Martin-Martinez, J.
- Garcia-Loureiro, A.J.
- Seoane, N.
- Nafria, M.
ISSN: 0741-3106
Ano de publicación: 2017
Volume: 38
Número: 5
Páxinas: 637-640
Tipo: Artigo