Scaling of metal gate workfunction variability in nanometer SOI-FinFETs

  1. Indalecio, G.
  2. Seoane, N.
  3. Aldegunde, M.
  4. Kalna, K.
  5. García-Loureiro, A.J.
Actas:
ULIS 2014 - 2014 15th International Conference on Ultimate Integration on Silicon

Ano de publicación: 2014

Páxinas: 105-108

Tipo: Achega congreso

DOI: 10.1109/ULIS.2014.6813927 GOOGLE SCHOLAR
Fonte de datos: Scopus