Scaling of Metal Gate Workfunction Variability in nanometer SOI-FinFETs

  1. Indalecio, G.
  2. Seoane, N.
  3. Aldegunde, M.
  4. Kalna, K.
  5. Garcia-Loureiro, A. J.
Colección de libros:
2014 15TH INTERNATIONAL CONFERENCE ON ULTIMATE INTEGRATION ON SILICON (ULIS)

ISSN: 2330-5738

ISBN: 978-1-4799-3718-9

Ano de publicación: 2014

Páxinas: 105-108

Congreso: 15th International Conference on Ultimate Integration on Silicon (ULIS)

Tipo: Achega congreso

GOOGLE SCHOLAR
Fonte de datos: WoS