Workfunction fluctuations in polycrystalline TiN observed with KPFM and their impact on MOSFETs variability
- Ruiz, A.
- Seoane, N.
- Claramunt, S.
- Garciá-Loureiro, A.
- Porti, M.
- Couso, C.
- Martin-Martinez, J.
- Nafria, M.
Revista:
Applied Physics Letters
ISSN: 0003-6951
Año de publicación: 2019
Volumen: 114
Número: 9
Tipo: Artículo