Strain-induced enhancement of the thermoelectric power in thin films of hole-doped La2NiO4+δ

  1. Bach, P.L.
  2. Vila-Fungueiriño, J.M.
  3. Leborán, V.
  4. Ferreiro-Vila, E.
  5. Rodríguez-González, B.
  6. Rivadulla, F.
Revista:
APL Materials

ISSN: 2166-532X

Ano de publicación: 2013

Volume: 1

Número: 2

Tipo: Artigo

DOI: 10.1063/1.4818356 GOOGLE SCHOLAR lock_openAcceso aberto editor

Obxectivos de Desenvolvemento Sustentable

Fonte de datos: Scopus